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首页»科技»1.8nm制程领头 美国半导体复兴 台积电、Intel等超过10兆投资建厂

1.8nm制程领头 美国半导体复兴 台积电、Intel等超过10兆投资建厂

8个月前阅读约需 2 分钟

美国为半导体技术的发源地,迄今依旧掌握着多项内核技术,然而,于半导体制造领域,美国近20年来市占确实在下滑,先进制程已经落后台积电、三星等公司了。


为此,美国于去年推出了500多亿美元的芯片法案,软硬兼施要求台积电、三星等公司在美国建设晶圆厂,同时,美国本土的Intel、美光、GlobalFoundries等公司亦加大了投资,美国未来几年将重回先进制程王者地位。

特别是Intel于2024年前后将会量产20A、18A制程,等于友商的2nm、1.8nm制程,不仅进度超前台积电,且会首发两大黑科技,亦即RibbonFET、PowerVia,带来全新的晶体管结构及背部供电技术,技术水准被指超越台积电2nm制程。

于美国政府多管齐下的刺激之下,美国的半导体投资亦出现了史无前例的复兴,有外媒汇整了近年各大公司公布的投资计划,可以从中了解美国晶圆厂带来的效益。


从表格来看,台积电未来于美国的投资高达400亿美元,Intel于多个地区都有上百亿美元的投资,10年内投资高达1000亿,类似的还有美国最大的保存芯片厂商美光,未来20年计划投资1000亿美元。

最终,这些公司的投资计划高达3466亿美元,约新台币10.58兆,将为美国带来超过3.4万个工作机会,此还是直接的职员,间接带来的工作会更多。

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